Висока чистота 99.998% Дисилан Si2H6 гас

Клучни карактеристики

• Ултра-Висока Чистота: Нашиот гас Disilane може да се пофали со ниво на чистота од 99,998%, обезбедувајќи минимални нечистотии кои би можеле да го загрозат интегритетот наелектронскиуреди.
• Конзистентна Квалитет: Произведено под строги контроли на квалитет, нашето гас осигурува конзистентна перформанса порака след порака.
• Версатилна Емболирање: Достапно во различни опции за емболирање за да одговара на различните потреби за чување и транспорт.
• Безбедна Обработка: Опремено со безбедносни карактеристики за спречување на протекувања и осигурување на безбедна обработка по време на користење.
• Екологично Сvestirano: Одветени кон одржливи практики, нашите методи на производство минимизираат екологичниот импакт.

Апликации

Гасот "High Purity 99.998% Disilane Si2H6 Gas" се користи во широк низа апликации во електронската индустрија:

• Производство на полупроводници: Како клучен реагент во производството на кремниум базирани полупроводници, го подобрува перформансот и ефикасноста на уредите.
• Депозиција на тонки филми: Користен во процесите на хемиска парна депозиција (CVD) за создавање на тонки филми со прецизна дефиниција и равномерност.
• Микроелектроника: Интегрален дел во fabricacion на микроелектронски компоненти, што им конtribуира на нивната миниатуризација и функционалност.
• Фотovoltaчни ћелии: Есенцијален во производството на високо-ефикасни фотovoltaчни ћелии за aplikacii на слончев енергија.
• Истражување & развој: Редовен во лаборатории за истражување и развој за истражување на нови материјали и технологии.

Клучни атрибути