Disilane (H6Si2) adalah sebatian gas anorganik cemerlang yang meluas digunakan dalam penyiapan semiconductor dan bahan suria. Sebagai bahan mentah utama dalam teknologi Pemendapan Kimia Berkepekatan (CVD), Disilane menonjol dengan sifat kimia uniknya seperti suhu pembentukan filem yang rendah, kadar pembentukan filem yang pantas, dan kualiti filem yang cemerlang, menjadikannya bahan pilihan dalam industri.
Produk Disilane kami dihasilkan menggunakan proses persiapan moden, memastikan kealihan dan kestabilan yang tinggi. Melalui kaedah pemecahan terma yang dikawal dengan tepat atau kaedah gas pemberi silana, kami boleh menghasilkan gas Disilane yang mematuhi piawaian perindustrian yang ketat. Produk ini cemerlang dalam proses PECVD, LPCVD, dan lain-lain, secara berkesan meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaan produk.
Sila ambil perhatian bahawa Disilane adalah bahan mudah menyala dan boleh menyala sendiri apabila bertemu udara, mungkin membentuk campuran letupan dengan udara. Oleh itu, semasa penggunaan dan penyimpanan, adalah penting untuk mematuhi peraturan keselamatan yang relevan dan mengambil langkah-langkah perlindungan peribadi yang sesuai untuk memastikan keselamatan dan kesihatan pengendali.
Produk Disilane kami tidak hanya mematuhi Nombor Pendaftaran CAS 1590-87-0 dan Nombor Pendaftaran EINECS 216-466-5, tetapi juga melalui kawalan kualiti yang ketat untuk memastikan kualiti dan kestabilan setiap batangannya. Kami berdedikasi untuk menyediakan pelanggan dengan produk Disilane berkualiti tinggi, selamat, dan boleh dipercayai untuk memenuhi permintaan pasaran yang meningkat.
Spesifikasi produk: