Gaz Disilan Si2H6 me Peshë 99.998%

Karakteristikat Kryesore

• Larg Purity e Larg : Gazi ynë Disilane krenohet me një nivel pastërtie prej 99,998%, duke siguruar papastërti minimale që mund të rrezikojnë integritetin e elektronike pajisje.
• Cilësi e qëndrueshme : Larg dhe në procese e kontrollit të kualitetit të rëndësishme, gazi ynë ofron performancë të njëjta përgjatë çdo seriete.
• Ambalim i Larg : Larg dhe disponueshëm në një gamë të zgjeruar të opsioneve të ambalimit për të plotësuar nevojat e ndryshme të depozitimit dhe transportit.
• Manipulim Sigur : Larg dhe pajisur me elemente sigurie për të mbrabshëruar larg dhe të sigurojne traktim të sigurt gjatë përdorimit.
• Të Ndërgjegjshëm për Mjedisin : Larg dhe vende ëndrra në praktika të qëndrueshme, metoda jonë e prodhimit minimizoje ndikimin në mjedisi.

Aplikimet

Gazi "High Purity 99.998% Disilane Si2H6" përdoret në një shkallë të gjerë të aplikimeve brenda sektorit elektronik:

• Prodhimin e gjysmëpërçuesve : Si reagjent kryesor në prodhimin e semikonduktorëve bazuar në silikon, duke përmirësuar performancën dhe efikasinen e pajisjeve.
• Depozicion i Larg dhe i Larg : Përdoret në procedurat e depozitimit të avapoqes kimike (CVD) për të krijuar larg dhe film me paksisë të sakta dhe uniformitet.
• Mikroelektronika : Larg integrale në llogaritjen e komponenteve mikroelektronike, duke kontribuar në miniaturizimin e tyre dhe funksionalitetin e tyre.
• Celë Elektrofotovoltaïke : Larg e domosdoshme në prodhimin e celave fotovoltaïke me efikasitet larg për aplikimet e energjise solare.
• Kërkim dhe Zhvillim : Një artikull baza në laboratoret e K&Z për eksplorimin e materialave të reja dhe teknologjive.

Atributet kryesore