Hoge zuiverheid 99,998% Disilane Si2H6 gas

Belangrijkste Kenmerken

• Ultra-Hoge Zuiverheid : Ons Disilane-gas heeft een zuiverheidsgraad van 99,998%, waardoor er minimale onzuiverheden zijn die de integriteit van het product in gevaar kunnen brengen. Elektronisch apparaten.
• Consistente Kwaliteit : Geproduceerd onder strenge kwaliteitscontroleprocessen, biedt onze gas consistent prestaties batch na batch.
• Veelzijdige Verpakking : Beschikbaar in een verscheidenheid aan verpakkingsopties om verschillende opslag- en transportbehoeften te voldoen.
• Veilige behandeling : Ugerust met veiligheidsfuncties om lekkages te voorkomen en veilige behandeling tijdens gebruik te waarborgen.
• Milieubewust : Gewijd aan duurzame praktijken minimaliseren onze productiemethoden het milieu-effect.

Toepassingen

De "High Purity 99.998% Disilane Si2H6 Gas" wordt gebruikt in een breed scala aan toepassingen binnen de elektronica-industrie:

• halfgeleiderproductie : Als een belangrijke reactant in de productie van siliciumgebaseerde halveleiders, verbeterend de prestaties en efficiëntie van apparaten.
• Dunne Films Afscheidingsmethode : Gebruikt in chemische vapor depositie (CVD) processen om dunne films met nauwkeurige dikte en uniformiteit te creëren.
• Micro-elektronica : Onmisbaar in de productie van microelektronische componenten, bijdragend aan hun miniaturisering en functionaliteit.
• Fotovoltaïscellelementen : Essentieel in de productie van hoge-efficiëntie fotovoltaïsche cellen voor zonne-energie toepassingen.
• Onderzoek en ontwikkeling : Een vaste waarde in R&D-laboratoria voor het onderzoeken van nieuwe materialen en technologieën.

Sleutelattributen