Disilane (H6Si2) is een hoogpresterend anorganisch gasverbinding die breed wordt gebruikt bij de bereiding van halvelektroden en zonne-energiematerialen. Als een sleutelruwe stof in de Chemical Vapor Deposition (CVD)-technologie onderscheidt Disilane zich door zijn unieke chemische eigenschappen zoals een lage filmvormende temperatuur, een snelle filmvormende snelheid en uitstekende filmkwaliteit, wat het tot een voorkeursmateriaal in de industrie maakt.
Ons Disilane-product wordt geproduceerd met geavanceerde preparatieprocessen, wat een hoge zuiverheid en stabiliteit waarborgt. Door precies gereguleerde thermische decompositie of silaanvoedgasmethodes kunnen we Disilanegassen fabriceren die voldoen aan strenge industrie-normen. Dit product presteert uitstekend in PECVD, LPCVD en andere productieprocessen, waarmee de prestaties en betrouwbaarheid van de producten effectief worden verbeterd.
Let op dat Disilane brandbaar is en spontaan kan ontbranden bij contact met lucht, mogelijk explosieve mengsels met lucht vormend. Daarom is het tijdens gebruik en opslag essentieel om strikt te voldoen aan de relevante veiligheidsvoorschriften en passende persoonlijke beschermingsmaatregelen te nemen om de veiligheid en gezondheid van de operateurs te waarborgen.
Ons Disilane-product voldoet niet alleen aan het CAS-registernummer 1590-87-0 en het EINECS-registernummer 216-466-5, maar ondergaat ook strenge kwaliteitscontroles om de kwaliteit en consistentie van elke partij te waarborgen. We zijn vastbesloten om klanten hoge-kwaliteit, veilige en betrouwbare Disilane-producten te bieden om de groeiende marktvraag te dekken.
Product Specificaties: