Gas na Silane ng Mataas na Kalinisan para sa Paggawa ng Semiconductor

Ang paggawa ng silane ay madalas nang umaangkat sa reaksyon ng silicon tetrachloride (SiCl4) kasama ang hydrogen gas sa mataas na temperatura. Ang proseso na ito ay nagbibigay ng silane pati na rin ang hydrochloric acid (HCl) bilang byproduct. Maaari ring gawing silane sa pamamagitan ng termal na deskomposisyon ng silanes o sa pamamagitan ng reaksyon ng metallic silicon kasama ang hydrochloric acid.

Bukod sa mga aplikasyon nito sa sektor ng elektronika, ginagamit din ang silane sa produksyon ng silane-treated glass fibers, na nagpapabilis ng pagdikit ng resins sa mga fiber, pagsusulong ng mekanikal na katangian ng mga kompyutado na anyo. Ginagamit din ito sa sintesis ng iba't ibang silicone polymers at bilang isang reducing agent sa mga kimikal na reaksyon.

Dahil sa kanyang pyrophoric na kalikasan, kinakailangang imbakin at ilipat ang silane sa ilalim ng mga kondisyon ng inert gas upang maiwasan ang aksidenteng pagbubukas. Ito ay madalas na ibinibigay sa mga tinidor na pinupresya at pinapangasiwaan ayon sa matalinghagang mga protokolo ng seguridad upang mapabawasan ang mga panganib na nauugnay sa kanyang reaktibidad.

Mga pangunahing katangian ng Silane:

• Kemikal na Formula: ‌ SiH4
• Pondong Molekular: ‌ 32.117 g/mol
• Takda ng Pagkukulo: ‌ -111.9°C
• Punto ng Pagmimiyelo: ‌ -161.2°C
• Kabuhaan: ‌ Mababanghang kabuhayan, pyrophoric
• Pangkat ng Panganib: ‌ Peligroso para sa kapaligiran, mababanghang gas

Ang mga sukat ng kaligtasan ay pinakamahalaga kapag nagtr trabaho sa silane, dahil ang pagsikat sa hangin ay maaaring magdulot ng awtomatikong pagkabubo, at ang pagsisimoy ng gas ay maaaring masama para sa kalusugan ng tao. Kailangan ang wastong ventilasyon, personal protective equipment, at mga plano para sa emergency para sa mga taong humahawak ng gas na reaktibo na ito.